一、HEYI-T3簡況
1、可以為鍍鋅鎳、鍍鋅以及其他電鍍品種凈化電解質(zhì)液體和廢水
2、可以消除電解液、清洗槽以及其他濃縮液不需要的雜質(zhì)。
· 全自動控制系統(tǒng)的設(shè)備
· 低能量消耗
· 耐腐蝕材料制成
· 簡潔而便于安裝
二、HEYI-T3的應(yīng)用領(lǐng)域
1、堿性鋅鎳、堿性鍍鋅、堿性鋅銅、氰化銅、氰化黃銅、氰化青銅、氰化鎘、氰化銀、氰化錫
2、祛除浸在硫酸液中的硫酸鐵;
3、有要求的其他所有應(yīng)用
三、HEYI-T3的工作原理
將要處理的液體從槽體里抽岀,然后將抽岀的液體冷卻到提前設(shè)置好的溫度。雜質(zhì)被過濾器過濾岀來并帶走,然后千凈的液體被抽回到槽體中,一直循環(huán)這個過程直到液體達(dá)到期望的效果。
優(yōu)勢:
1、提高槽液的電流效率
2、槽液更長的使用壽命
3、低能量消耗
4、節(jié)約化學(xué)品的消耗
5、生產(chǎn)時間不曾中斷
6、廢水少
7、勞動成本低(機(jī)器自動化)
四、HEYI-T3的基本數(shù)據(jù)
1、凈化系統(tǒng)處理前后槽液成份對比(鋅鎳槽液)
主要成分 | 測定值(g/l) | ||
原槽液 | 冷凍機(jī)中槽液2℃ | 由此我們可以得到HEYI-T3凈化系統(tǒng)主要是去除鋅鎳槽液中的碳酸鈉 | |
NaOH | 115.9 | 130.9↑ | |
Zn | 6.1 | 7.0↑ | |
Ni | 1.3 | 1.5↑ | |
Na2CO3 | 75.3 | 25.4↓ | |
TOC | 38.5 | 45.4↑ |
2、凈化系統(tǒng)處理后碳酸鈉混合物中各成分含量
結(jié)晶混合物 | 主要成分比例 |
NaOH | 14.5% |
Na2CO3 | 26.7% |
水分 | 47.8% |
其他 | 11% |
3、凈化系統(tǒng)的產(chǎn)能
1、目前HEYI-T3系統(tǒng)毎處理一個循環(huán)(將槽液從28攝氏度降溫到2攝氏度),大約需要1小時左右;每天(24小時)大約可以處理1200L槽液;
2、鍍槽中的碳酸鈉含量為75.3g∧,后經(jīng)ⅥSL-T3系統(tǒng)處理后,槽液中碳酸鈉含是25.4g/l;
3、HEYI-T3系統(tǒng)單日處理碳酸鈉的量為:1200*(75.3-25.4)=59.8kg;
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